H94-31型4″双面 光刻机主要用途
主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路的研制和生产。
工作方式
本机采用版—版对准双面同时曝光方式，亦可用于单面曝光。
主要构成
主要由高精度对准工作台、Z轴升降机构、双视场CCD显微显示系统)、二台多面反射式曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式真空泵、防震工作台等组成。
H94-31型4″双面
CCD显微系统
X、Y、Q对准工作台
Z轴升降机构
1.适用范围广
适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。
2.结构先进
Z轴采用滚珠直进式导轨和可实现硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构，真空吸版，防粘片机构。
3.操作简便
X、Y移动、Q转、Z轴升降采用手动方式；吸版、反吹采用按钮方式，操作、调试、维护、修理都非常简便。
4.可靠性高
采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的零件加工，使本机具有非常高的可靠性。
主要技术指标
◆基片尺寸：4″、3″、2″，基片厚度≤5mm
◆版架尺寸：□5″×5″、 □4″×4″、□3″×3″
◆对准范围：X、Y粗调±5mm、Q向±5°
◆对准精度：≤±2μm
◆分离距离：≥10mm
◆曝光范围：≥φ115mm
◆曝光分辩率：2μm
◆能实现硬接触曝光、软接触曝光和微力接触 曝光
◆多面反射曝光头，光的不均匀性：≤±6%，使用200瓦直流汞灯，风冷。
◆曝光时间：0-999.9秒，上、下曝光头分别可调
◆光强：≥4mw/cm2
◆采用双视场CCD显微显示系统，放大倍数60×-400×；双物镜距离25-100mm
◆动力：压缩空气3.5kg、电压AC220V/50Hz、功率1KW。
◆外形尺寸：870×680×1450mm （L×W×H）
◆重量：170kg.
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