H94-31型4″双面光刻机主要用途主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路的研制和生产。工作方式本机采用版—版对准双面同时曝光方式，亦可用于单面曝光。主要构成主要...

H94-17G型4″单面光刻机主要用途主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。主要构成主要由高精度对准工作台、双目分离视场显微镜(或CCD显微显示系统)、曝光头...

H94-25C/4″单面H94-25C型4″单面光刻机主要用途主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。由于本机找平机构先进，找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝...

H94-27/6″单面H94-27型6″单面光刻机主要用途主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。由于本机找平机构先进，找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片...

H94-30/4″双面H94-30型4″双面光刻机主要用途主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产。由于本机找平机构先进，找平力小，使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而...